Богомолов Б.К. Эпитаксиальный рост тонких пленок силицидов

Москва: ЦНИИ Электроника, 1986. — 58 с. — (Обзоры по электронной технике. Серия 6. Материалы. Выпуск 5 (1208)).Представлен обзор литературы по эпитаксиальному росту тонких пленок силицидов на поверхности кремния, металлов и сложных веществ. Наиболее подробно освещены вопросы, связанные со структурой силицидных пленок. Приведенные данные могут быть использованы для разработки технологии формирования стабильных барьеров Шотки и контактов к кремниевым подложкам. Для специалистов, инженеров-технологов, преподавателей, аспирантов и студентов.Введение.Эпитаксиальный рост тонких пленок силицидов на поверхности кремния.
Силициды кобальта.
Силициды никеля.
Силициды палладия, платины, хрома, железа и эрбия.
Силициды металлов, эпитаксия которых теоретически возможна.Эпитаксиальный рост тонких пленок силицидов на поверхности металлов.
Силициды вольфрама.
Силициды никеля.
Силициды платины.
Силициды ниобия.Эпитаксиальный рост тонкой пленки Nb₃Si на поверхности Nb₃Ir.Заключение.
Литература.